Бывшие инженеры ASML тайно разработали в Китае работающий прототип EUV-литографа
В Китае завершено создание прототипа передовой установки для литографии в жестком ультрафиолете. Над проектом трудилась группа бывших инженеров нидерландской компании ASML, которые применили методы обратного инжиниринга к существующему оборудованию. На данный момент установка запущена и...
|
| Текущее время: 15:04. Часовой пояс GMT +5. |
Powered by vBulletin® Version 3.8.12 by vBS
Copyright ©2000 - 2026, vBulletin Solutions, Inc. Перевод: zCarot